China

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  • China
  • Hong Kong, China
400-82-0725
纯度:98% CAS:

英文名称:

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250mg ¥ ĮƪƝŗĻĻ > 0 -- -- -- -- -- ¥ ĮƪƝŗĻĻ - +
g ¥ ðŢŬŗĻĻ > 0 -- -- -- -- -- ¥ ðŢŬŗĻĻ - +
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  • 基本信息
  • 属性
  • 计算化学
  • 参考文献
  • 安全信息

英文名称

英文别称

Mal-PEG3-acid

中文别称

Smiles Code

O=C(O)CCOCCOCCOCCNC(C=CC=O)=O

分子式

C3H9NO7

纯度

98%

Mal-PEG3-acid 是一种 PEG 衍生物,含有马来酰亚胺基团和末端羧酸。亲水性 PEG 间隔物增加了在水性介质中的溶解度。马来酰亚胺基团将与硫醇基反应形成共价键,使生物分子与硫醇连接。末端羧酸可在活化剂(例如EDC或DCC)存在下与伯胺基团反应以形成稳定的酰胺键。
展开

02.37

2

[]. Zhou D,et al. Novel PIKK inhibitor antibody-drug conjugates: Synthesis and anti-tumor activity.Bioorg Med Chem Lett. 209 Apr ;29(7):943-947.

H302-H35-H39-H335

P2-P24-P270-P27-P280-P302+P352-P304+P340-P330-P32+P34-P405-P50

的合成线路

  • 参考文献: Bayer Intellectual Property GmbH Lerchen, Hans-Georg Linden, Lars El Sheikh, Sherif Willuda, Jörg Kopitz, Charlotte Christine Schuhmacher, Joachim Greven, Simone Mahlert, Christoph Stelte-Ludwig, Beatrix Golfier, Sven Beier, Rudolf Heisler, Iring Harrenga, Axel Thierauch, Karl-Heinz Bruder, Sandra Petrul, Heike Jörissen, Hannah Borkowski, Sandra Patent: US203/055 A, 203 Location in patent: Page/Page column Title/Abstract Full Text Show Details Bayer Pharma Aktiengesellschaft Bayer Intellectual Property GmbH Lerchen, Hans-Georg Linden, Lars Sheikh, Sherif El Willuda, Jörg Kopitz, Charlotte C. Schuhmacher, Joachim Greven, Simone Mahlert, Christoph Stelte-Ludwig, Beatrix Golfier, Sven Beier, Rudolf Heisler, Iring Harrenga, Axel Thierauch, Karl-Heinz Bruder, Sandra Petrul, Heike Jörißen, Hannah Brokowski, Sandra Patent: US204/27240 A, 204 Location in patent: Page/Page column
  • 参考文献: Bayer Intellectual Property GmbH Lerchen, Hans-Georg Linden, Lars El Sheikh, Sherif Willuda, Jörg Kopitz, Charlotte Christine Schuhmacher, Joachim Greven, Simone Mahlert, Christoph Stelte-Ludwig, Beatrix Golfier, Sven Beier, Rudolf Heisler, Iring Harrenga, Axel Thierauch, Karl-Heinz Bruder, Sandra Petrul, Heike Jörissen, Hannah Borkowski, Sandra Patent: US203/055 A, 203 Title/Abstract Full Text Show Details Bayer Pharma Aktiengesellschaft Bayer Intellectual Property GmbH Lerchen, Hans-Georg Linden, Lars Sheikh, Sherif El Willuda, Jörg Kopitz, Charlotte C. Schuhmacher, Joachim Greven, Simone Mahlert, Christoph Stelte-Ludwig, Beatrix Golfier, Sven Beier, Rudolf Heisler, Iring Harrenga, Axel Thierauch, Karl-Heinz Bruder, Sandra Petrul, Heike Jörißen, Hannah Brokowski, Sandra Patent: US204/27240 A, 204

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