China

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-821-72

纯度:98% CAS:

英文名称:Ethyl N-(mesitylsulfonyl)oxyacetimidate

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1g ¥ ĜĜǹljƻƻ 1 > 1 1 3 2 ¥ ĜĜǹljƻƻ - +
2g ¥ Ǝǔƻljƻƻ > 1 2 3 ¥ Ǝǔƻljƻƻ - +
1g ¥ Ĝƻǔǔljƻƻ 1 > 1 -- 2 3 1 ¥ Ĝƻǔǔljƻƻ - +
g ¥ ƣŲǔŲljƻƻ -- -- 2 2 1 ¥ ƣŲǔŲljƻƻ - +
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英文名称

Ethyl N-(mesitylsulfonyl)oxyacetimidate

英文别称

O-Mesitylsulfonylacetohydroxamic Acid Ethyl Ester

中文别称

Smiles Code

C/C(OCC)=N\OS(=O)(C1=C(C)C=C(C)C=C1C)=O

分子式

C13H19NOS

纯度

98%

展开

6.96

H32-H31-H319-H33

P261-P26-P27-P271-P28-P32+P32-P3+P3-P3+P31+P338-P33-P362+P36-P3+P233-P-P1

GHS7

的合成线路

  • 参考文献: BRISTOL-MYERS SQUIBB COMPANY PRACITTO, Richard KADOW, John, F. BENDER, John, A. BENO, Brett, R. GRANT-YOUNG, Katharine HAN, Ying HEWAWASAM, Piyasena NICKEL, Andrew PARCELLA, Kyle, E. YEUNG, Kap-Sun CHUPAK, Louis, S. Patent: WO211/112186 A1, 211 Location in patent: Page/Page column 22 WO 211/112186 A1
  • 参考文献: BRISTOL-MYERS SQUIBB COMPANY PRACITTO, Richard KADOW, John F. BENDER, John A. BENO, Brett R. GRANT-YOUNG, Katharine A. HAN, Ying HEWAWASAM, Piyasena NICKEL, Andrew PARCELLA, Kyle E. YEUNG, Kap-Sun CHUPAK, Louis S. Patent: WO21/338 A2, 21 Location in patent: Page/Page column 23

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